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赛默飞 系列 ICP-OESICP-AES 可检测钽粉
赛默飞ICP-AESiCAP 7000 Plus可以用在化工试剂/助剂行业领域,用来检测钽粉,可完成氢氟酸、硝酸项目。符合多项行业标准金属百科.钽的用途及应用领域.http
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EXPEC 2000(规格:112)微型化非甲烷总烃在线分析系统
产品概述EXPEC 2000(规格:112)微型化非甲烷总烃在线分析系统采用GC-FID法,非甲烷总烃从总烃中分离后直接测定非甲烷总烃浓度(直接法)。非甲烷总烃采用低温富集热脱附技术,甲烷采用定量环
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赛默飞IQLAAAGABHFAPBMBFC UltiMate™ 3000 基础自动化系统 适用于各种柱规格和柱粒径
UltiMate™ 3000 基础自动化系统货号: IQLAAAGABHFAPBMBFCChromeleon CDS 软件让操作变得容易通过 Thermo Scientific Dionex
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牛津仪器Etch刻蚀工艺 应用硅
电介质刻蚀(Ta2O5)—五氧化二钽刻蚀Al2O3—刻蚀氧化铝—感应耦合等离子体刻蚀蓝宝石GST刻蚀- 锗锑碲化物的ICP刻蚀技术感应耦合等离子体刻蚀Bi2Te3—刻蚀碲化铋反应离子刻蚀ITO—刻蚀
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牛津仪器Etch刻蚀工艺
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牛津仪器Etch刻蚀工艺 应用金属
铝镓铟磷刻蚀InP—刻蚀磷化铟刻蚀InAlAs—刻蚀砷化铟铝刻蚀InP/InGaAsP—刻蚀磷化铟/铟镓砷磷刻蚀ZnSe—反应离子刻蚀硒化锌电介质刻蚀(Ta2O5)—五氧化二钽刻蚀Al2O3—刻蚀
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牛津仪器Etch刻蚀工艺 应用化合物半导体
铟刻蚀InAlAs—刻蚀砷化铟铝刻蚀InP/InGaAsP—刻蚀磷化铟/铟镓砷磷刻蚀ZnSe—反应离子刻蚀硒化锌电介质刻蚀(Ta2O5)—五氧化二钽刻蚀Al2O3—刻蚀氧化铝—感应耦合等离子体刻蚀
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牛津仪器Etch刻蚀工艺 应用电介质
铟刻蚀InAlAs—刻蚀砷化铟铝刻蚀InP/InGaAsP—刻蚀磷化铟/铟镓砷磷刻蚀ZnSe—反应离子刻蚀硒化锌电介质刻蚀(Ta2O5)—五氧化二钽刻蚀Al2O3—刻蚀氧化铝—感应耦合等离子体刻蚀
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牛津仪器Etch刻蚀工艺 应用有机物
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